DESCRIPCIÓN
El sistema CVD de horno tubular de vacío/atmósfera de 1600 °C (CVD-TF) proporciona un entorno experimental con vacío, atmósfera controlable y alta temperatura, y se utiliza en semiconductores, nanotecnología, fibra y otros campos. Este sistema de crecimiento CVD es adecuado para el proceso CVD, como el revestimiento de carburo de silicio, la prueba de conductividad del sustrato cerámico, el crecimiento controlable de la nanoestructura de ZnO, la sinterización en atmósfera de capacitores cerámicos (MLCC) y otros experimentos.